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Datos del producto:
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| Resaltar: | Cartucho de filtro de líquido de pulido,alta capacidad de retención de suciedad,Bajas precipitaciones |
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El cartucho de filtro de retención de suciedad de alto contenido de líquido de pulido de la serie CMA está diseñado para la filtración de partículas a granel y coloides en procesos de CMP de óxido, CMP de tungsteno y CMP de cobre.
Esta serie utiliza un tratamiento de gradiente y un diseño único de tamaño de poro gradual.que permite capturar partículas y aglomerados grandes mientras que las partículas de pulido útiles pueden pasar a travésEsta estructura ayuda a mejorar la eficiencia de filtración, aumentar el espacio de retención de suciedad, reducir el taponamiento y extender la vida útil del filtro.
Con una construcción totalmente de polipropileno, baja precipitación, amplia compatibilidad química y posiciones de micrones opcionales de 0,1 μm a 90 μm,La serie CMA es adecuada para diferentes requisitos de filtración de líquido de pulido.
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El tamaño de los poros del medio filtrante disminuye gradualmente desde el exterior hacia el interior.proporcionando un área de filtración efectiva más grande y una mayor capacidad de retención de suciedad.
El cartucho está hecho con una construcción totalmente de PP y se produce sin adhesivos o tensioactivos.
La estructura de polipropileno proporciona una buena compatibilidad química y es adecuada para la filtración de diversos líquidos de pulido y fluidos de proceso.
Las clasificaciones de micrones de 0,1 μm a 90 μm están disponibles para satisfacer diferentes requisitos del proceso de pulido..
| Punto de trabajo | Especificación |
|---|---|
| Serie de productos | Serie CMA |
| Tipo de producto | Cartucho de filtro de retención de suciedad alta para el líquido de pulido |
| Medios de filtro | Polipropileno PP |
| Cajera / núcleo / tapas finales | Polipropileno PP |
| Estructura | Estructura de filtración de tamaño de poro en gradiente |
| Clasificación de micrones | 0.1 μm 90 μm |
| Principales aplicaciones | Filtración de líquido de pulido, filtración de estiércol CMP |
| Temperatura máxima de funcionamiento | 70°C |
| Presión diferencial de funcionamiento máxima | 4 bar @ 21°C; 2,4 bar @ 70°C |
| Construcción | Estructura totalmente de PP, sin adhesivos ni tensioactivos |
| Personalización | Se puede personalizar la clasificación de micrones, longitud, tipo de tapa final y tipo de interfaz |
| Serie | El micrón | Duración | Tipo de tapa de extremo | Material del sello |
|---|---|---|---|---|
| El CMA | El valor de las emisiones de CO2 es el valor de las emisiones de CO2 de los combustibles fósiles. 0100=1,0 μm 4000=40um 0150=1.5um 0200=2.0μm 7000=70μm 0500 = 5,0 μm 9000 = 90 μm | 10 = 10 " 20 = 20 " 30 = 30 40 = 40 " | C3=222/Fin C5=222/Plaza C9=DOE | E=EPDM V=Viton |
| Industria | Aplicación |
|---|---|
| Semi-conductores | Filtración de lodos de CMP de óxido, CMP de tungsteno, CMP de cobre |
| Fabricación de productos electrónicos | Filtración de líquidos de pulido y control de partículas |
| Procesamiento de obleas | Filtración por proceso CMP |
| Muestra / FPD | Filtración de líquido de pulido de precisión |
| Tratamiento de la superficie de precisión | Eliminación de partículas a granel y coloides |
En comparación con los cartuchos de filtro de PP ordinarios, la serie CMA está especialmente diseñada para la filtración de líquido de pulido y de lodo CMP.Su estructura de filtración gradiente ayuda a capturar partículas grandes mientras se mantienen los componentes de pulido eficaces en el líquido.
La alta capacidad de retención de suciedad puede reducir el bloqueo, extender la vida útil y reducir la frecuencia de reemplazo del filtro.La estructura totalmente libre de adhesivos de PP también ayuda a controlar la precipitación y mejorar la limpieza del proceso.
Proporcionamos un soporte técnico integral para la instalación, operación y mantenimiento, incluida la guía de reemplazo de filtros y recomendaciones de mantenimiento.La documentación completa incluye manuales de usuario, guías de instalación y notas de solución de problemas.
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Shanghai Pullner Filtration Technology Co., Ltd. fue establecida en mayo de 2011 con un capital social de 26 millones de RMB. La compañía opera un taller de sala limpia de clase 100,000 (3,000 m2) y una clase 1 en el lugar, 000 laboratorio limpio, que integra la I+D, la fabricación y las ventas de equipos y sistemas de filtración de membrana microporous.
Los productos Pullner se aplican ampliamente en microelectrónica, productos químicos finos, nueva energía, desalinización de agua de mar, biotecnología y campos de laboratorio, incluidos los paneles LCD, procesamiento de semiconductores,productos químicos de alta pureza, filtración de condensado y reutilización de agua recuperada.
La compañía posee certificados ISO9001 / ISO14001 / ISO45001, es reconocida como una empresa de alta tecnología y posee múltiples patentes.
Persona de Contacto: Miss. Lucy
Teléfono: 86-21-57718597
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